Seperti yang kita sedia maklum, hanya ada satu pengeluar di dunia yang boleh menghasilkan litografi EUV, ia adalahASML Belanda.
Sebab mengapa hanya terdapat satu pengeluar di dunia ialah ASML telah mengikat banyak pengeluar utama bersama-sama, seperti Zeiss (Zeiss), sebuah syarikat optik Jerman, Cymer (AS), danTRUMPF (Jerman).
ASML telah mengikat pengilang ini dengan keretanya melalui pelaburan, pemerolehan, pegangan saham, penubuhan pusat penyelidikan, dan sebagainya, dan pengeluar ini, mungkin satu-satunya pengeluar di dunia yang boleh menghasilkan produk ini, jadi akhirnya hanya ASML di dunia boleh menghasilkan litografi EUV.
Walau bagaimanapun, baru-baru ini, rantaian bekalan utama ASML, berlari ke Shenzhen, China untuk membina sebuah kilang, anak syarikat Shenzhennya menetap di Taman Demonstrasi Perindustrian Sino-Jerman (Eropah) Baoan.
Pengilang ini ialah Kumpulan TRUMPF Jerman (TRUMPF), ia adalah litografi EUV ASML, satu-satunya pembekal sumber laser di dunia.
Produk TRUMPF dalam litografi EUV, betapa pentingnya? Pertama, dengar saya menerangkan prinsip litografi EUV, anda akan faham.
Prinsip litografi EUV, secara ringkasnya, berpusat pada tiga sistem utama, sistem sumber cahaya ultraviolet EUV, sistem cermin objektif, dan sistem meja.
Proses khusus adalah menggunakan laser untuk merangsang panjang gelombang 13.5nm cahaya ultraungu yang melampau, yang kemudiannya diperbetulkan untuk membentuk pancaran cahaya terkawal, yang kemudiannya ditayangkan ke atas meja photomask sebelum ditayangkan melalui cermin objektif ke meja pendedahan dan akhirnya terukir ke dalam litar pada wafer silikon yang disalut dengan photoresist.
Bagaimana salah satu sistem sumber cahaya UV EUV diperoleh dengan mengebom titisan logam timah (Sn) dengan laser CO2 kuasa 30 kW, menyejatkannya ke dalam plasma, dan akhirnya memperoleh cahaya EUV pada panjang gelombang 13.5 nm.
Laser CO2 30 kW ini dibekalkan oleh TRUMPF, satu-satunya di dunia.
Jangan memandang rendah laser CO2 ini, ia mempunyai 457,329 bahagian, panjang kabel dalam sistem adalah sehingga 7,322 meter, dan beratnya ialah 17,090 kg, yang merupakan salah satu komponen teras terpenting dalam litografi EUV.
Sekarang TRUMPF berlari ke China untuk membina sebuah kilang, niatnya jelas, iaitu, optimis tentang pasaran laser China, dan lebih pandangan jangka panjang, optimis tentang pasaran litografi China, masa depan boleh bekerjasama dengan China untuk membina litografi EUV .
Malah, sudah ada lebih daripada satu rantaian bekalan ASML yang berjalan ke China untuk membina kilang, ada KMWE dan pengeluar lain, juga ke China untuk membina kilang.
Mengikut arah aliran semasa, kami secara optimis boleh menjangkakan bahawa mungkin tidak lama lagi teknologi litografi China akan menjadi satu langkah besar ke hadapan, malah jumlah keluaran litografi EUV, juga boleh dinantikan, adakah anda fikir?
