Hari ini, MRJ-Laser mendapat penghormatan untuk mengalu-alukan delegasi akademik terkemuka yang diketuai oleh seorang profesor dari Universiti Sains dan Teknologi Elektronik China. Delegasi itu juga termasuk dua profesor yang dihormati dari Ethiopia, yang menyertai lawatan itu untuk mendapatkan pandangan yang lebih mendalam tentang perkembangan terkini dalam aplikasi laser industri.
Semasa lawatan itu, para tetamu menjalankan lawatan menyeluruh ke MRJ-kemudahan pembuatan dan pusat R&D Laser. Tumpuan lawatan adalah pada tiga teknologi utama: pembersihan laser, kimpalan laser dan penandaan laser. MRJ-Pasukan teknikal Laser menyediakan demonstrasi terperinci, mempamerkan kecekapan, ketepatan dan kelebihan persekitaran sistem laser moden.
Delegasi tersebut menunjukkan minat khusus terhadap penyelesaian pembersihan laser syarikat, yang menawarkan alternatif yang tidak-kenalan, mesra alam- kepada kaedah rawatan permukaan tradisional. Selain itu, sistem kimpalan laser termaju mengagumkan pelawat dengan-prestasi kelajuan tinggi dan kualiti kimpalan yang unggul. Teknologi penandaan laser, yang terkenal dengan ketahanan dan ketepatannya, turut menarik perhatian yang ketara.
Sepanjang lawatan, kedua-dua pihak terlibat dalam-perbincangan teknikal yang mendalam, bertukar-tukar idea tentang aplikasi yang berpotensi, kerjasama penyelidikan dan arah aliran industri masa hadapan. Profesor Ethiopia menyatakan minat yang kuat untuk memperkenalkan teknologi laser canggih ke dalam industri tempatan dan penyelidikan akademik.
MRJ-Laser ialah pengilang profesional yang mengkhusus dalam peralatan laser ODM dan OEM, dengan lebih 15 tahun pengalaman dalam teknologi aplikasi laser. Syarikat ini berdedikasi untuk penyelidikan, pembangunan, pembuatan, jualan, dan perkhidmatan pembersihan laser, kimpalan laser, penandaan laser dan peralatan automasi laser.
Lawatan ini bukan sahaja mengukuhkan pertukaran akademik antarabangsa tetapi juga meletakkan asas kukuh untuk potensi kerjasama masa depan antara MRJ-Laser dan institusi penyelidikan global.
