Pasukan penyelidik dari Universiti Tokyo menerbitkan kajian bertajuk "Pemesinan mikro nilam ultrahigh-dengan mempertingkatkan penyerapan laser" dalam jurnal antarabangsa *Kejuruteraan Komunikasi*. Kajian ini memperkenalkan kaedah pemprosesan laser selektif sementara yang menggabungkan satu nadi femtosaat secara sepaksi dengan nadi mikrosaat tunggal, membolehkan fabrikasi-tinggi lubang mikro dalam-dalam dalam nilam sambil mengimbangi kecekapan pemprosesan dan kawalan kerosakan.
Eksperimen menggunakan nadi femtosaat tunggal (panjang gelombang 1030 nm, lebar nadi 170 fs) dan nadi mikrosaat tunggal (panjang gelombang 1070 nm). Nadi mikrosaat tiba 10 μs lebih awal; memandangkan nilam pada suhu bilik sangat telus kepada cahaya 1070 nm, tiada pemesinan berlaku pada peringkat itu. Selepas kedatangan nadi femtosaat, filamen plasma terbentuk dan mencetuskan penyerapan, diikuti dengan pemanasan dan penggerudian berterusan oleh laser mikrosaat. Pam-pengimejan kuar,-fotografi berkelajuan tinggi dan simulasi resapan terma dan perambatan laser digunakan untuk menjejak pengujaan elektron,-evolusi kedalaman lubang dan pengembangan zon suhu170tinggi. Keputusan menunjukkan bahawa kedalaman lubang mencapai kira-kira 190 μm dalam 39 μs, dengan purata kelajuan penggerudian 4.86 m/s dan kelajuan puncak awal melebihi 7.5 m/s. Berbanding dengan nadi femtosaat 1 kHz konvensional-oleh-penggerudian nadi, kelajuan pemprosesan meningkat kira-kira empat urutan magnitud dan keretakan substrat semasa fasa penyinaran dikurangkan dengan ketara.
